光刻机

据宁波前湾新区管理委员会7月15日消息，近日宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40nm技术节点量产及28nm技术节点研发的重点设备。 据了解，冠石半导体主要从事45nm~28nm半导体光掩模版的规模化生产。当前，冠石半导体一期洁净车间设计产能为月产5000片180nm~28nm集成电路掩模版。据冠石相关负责…

有记者问：6月30日，荷兰宣布将部分光刻机等半导体相关产品纳入出口管制。中方对此有何评论？ 答：中方注意到相关报道。近几个月以来，中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商。但荷方最终仍将相关半导体设备列管，中方对此表示不满。近年来，美国为维护自身全球霸权，不断泛化国家安全概念，滥用出口管制措施，甚至不惜牺牲盟友利益，胁迫拉拢其他国家对中国实…

近期，在美国持续施压对华禁运关键半导体技术的情况下，荷兰政府正准备对半导体设备实施新的出口限制。 光刻机是制造芯片的核心装备，制造难度极大，国产光刻机仍较为落后。目前高端光刻机制造领域，全球只有少数几家公司能掌握。上海微电子已经能实现90nm量产（600系列光刻机），正在攻克28nm光刻机，与ASML的技术实力仍有较大差距，国产光刻机亟待突破。 在光刻机国产…