路维光电：已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品量产

IC创客 • 文章来源: SEMIPR整合 • 2023-07-05 09:45 • 行业动态

路维光电近期在接受调研时表示，目前公司已实现180nm及以上制程节点半导体掩膜版产品的量产，可应用于MOSFET、IGBT、MEMS、SAW、先进封装等半导体制造领域；同时，公司通过自主研发，储备了150nm制程节点半导体掩膜版制造技术，可以覆盖第三代半导体相关产品。

路维光电专注于各类掩膜产品的研发生产，在中国掩膜版行业拥有多年的技术与经验，是国内唯一一家可覆盖G2.5-G11全世代产线的本土掩膜版企业。

路维光电自成立至今，一直致力于各类掩膜版的研发、生产和销售，产品主要用于平板显示、半导体、触控和电路板等行业，是下游微电子制造过程中转移图形的基准和蓝本。经过多年技术积累和自主创新，公司具有G2.5-G11全世代掩膜版生产线，可配套平板显示厂商所有世代产线；实现了180nm及以上制程节点半导体掩膜版量产，并掌握了150nm制程节点半导体掩版制造关键核心技术，满足国内先进半导体芯片封装和半导体器件等应用需求。

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