近年来，集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业，尤其在中国，集成电路产业受到了前所未有的关注，并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。
自2017年以来，IWAPS已经在全国各地成功举办六届。会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加，行业反响热烈，业已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外，IWAPS自2020年起已被IEEE收录，接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。
时间地点：2023年10月26-27日 浙江丽水
本次会议由中国集成电路创新联盟，中国光学学会；中国科学院微电子研究所承办；南京诚芯集成电路技术研究院协办。IEEE电气和电子工程师协会提供支持。
任何疑问，您可以直接致信iwaps@ime.ac.cn进行咨询，亦可拨打电话：010-82995816
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